- Terug naar boven
- Beschrijving
- Functies
- Beoordelingen van klanten
Beschrijving
20µ wondfilterpatroon voor sedimentbehandeling
Anti-onzuiverheidspatroon ideaal voor het filteren van vaste stoffen of fijne organische deeltjes.
Kenmerken
Afkomst
Frankrijk
Fabrikant
Uvrer
RERUV
UV-stations en stadium
- Eureka
- Mini Rep
- Modul'eau
Recensies
Geen beoordelingen gevonden